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• 테스, 636.22억원 규모 신규 시설투자 결정

  제목 : 테스, 636.22억원 규모 신규 시설투자 결정▶못 본 사람은 있어도 한번만 본 사람은 없는 마약주식신문!테스는 연구개발(R&D) 시설 확충 목적으로 636.22억원 규모의 신규시설(신규 시설(건물 신축) 투자) 투자를 결정했다고 공시했다. 이는 자기자본대비 20.75%에 해당하는 금액이며, 투자기간은 2023-06-15 부터 2025-07-31 ...

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  2023-06-14 14:03

• 테스(095610) 소폭 상승세 +3.19%, 5거래일만에 반등

  제목 : 테스(095610) 소폭 상승세 +3.19%, 5거래일만에 반등 기업개요 반도체 장비 제조 사업(전공정 핵심장비 CVD, ETCH장비 제조 등) 등을 영위하는 업체. 전공정 중에서 박막 형성을 위해 사용되는 증착장비인 PECVD(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition)와 건식식각장비인 Gas Phase Etch ...

  인포스탁

  2023-05-26 09:52

• 테스(095610) 소폭 상승세 +3.18%

  제목 : 테스(095610) 소폭 상승세 +3.18% 기업개요 반도체 장비 제조 사업(전공정 핵심장비 CVD, ETCH장비 제조 등) 등을 영위하는 업체. 전공정 중에서 박막 형성을 위해 사용되는 증착장비인 PECVD(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition)와 건식식각장비인 Gas Phase Etch & Cleaning ...

  인포스탁

  2023-05-16 09:25

• 테스(095610) 소폭 상승세 +3.05%

  제목 : 테스(095610) 소폭 상승세 +3.05% 기업개요 반도체 장비 제조 사업(전공정 핵심장비 CVD, ETCH장비 제조 등) 등을 영위하는 업체. 전공정 중에서 박막 형성을 위해 사용되는 증착장비인 PECVD(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition)와 건식식각장비인 Gas Phase Etch & Cleaning ...

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  2023-05-08 09:42

• 테스(095610) 소폭 상승세 +3.04%, 외국계 매수 유입

  제목 : 테스(095610) 소폭 상승세 +3.04%, 외국계 매수 유입 기업개요 반도체 장비 제조 사업(전공정 핵심장비 CVD, ETCH장비 제조 등) 등을 영위하는 업체. 전공정 중에서 박막 형성을 위해 사용되는 증착장비인 PECVD(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition)와 건식식각장비인 Gas Phase Etch ...

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  2023-04-26 09:38

• 테스(095610) 소폭 상승세 +3.02%

  제목 : 테스(095610) 소폭 상승세 +3.02% 기업개요 반도체 장비 제조 사업(전공정 핵심장비 CVD, ETCH장비 제조 등) 등을 영위하는 업체. 전공정 중에서 박막 형성을 위해 사용되는 증착장비인 PECVD(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition)와 건식식각장비인 Gas Phase Etch & Cleaning ...

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  2023-04-20 12:33

• 테스(095610) 소폭 상승세 +3.16%, 외국계 매수 유입

  제목 : 테스(095610) 소폭 상승세 +3.16%, 외국계 매수 유입 기업개요 반도체 장비 제조 사업(전공정 핵심장비 CVD, ETCH장비 제조 등) 등을 영위하는 업체. 전공정 중에서 박막 형성을 위해 사용되는 증착장비인 PECVD(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition)와 건식식각장비인 Gas Phase Etch ...

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  2023-04-17 14:36

• 테스(095610) 소폭 상승세 +3.11%, 5거래일 연속 상승

  제목 : 테스(095610) 소폭 상승세 +3.11%, 5거래일 연속 상승 기업개요 반도체 장비 제조 사업(전공정 핵심장비 CVD, ETCH장비 제조 등) 등을 영위하는 업체. 전공정 중에서 박막 형성을 위해 사용되는 증착장비인 PECVD(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition)와 건식식각장비인 Gas Phase Etch...

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  2023-04-11 09:35

• 테스(095610) 소폭 상승세 +4.61%, 3거래일 연속 상승

  제목 : 테스(095610) 소폭 상승세 +4.61%, 3거래일 연속 상승 기업개요 반도체 장비 제조 사업(전공정 핵심장비 CVD, ETCH장비 제조 등) 등을 영위하는 업체. 전공정 중에서 박막 형성을 위해 사용되는 증착장비인 PECVD(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition)와 건식식각장비인 Gas Phase Etch...

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  2023-04-07 11:36

• 테스(095610) 소폭 상승세 +3.17%

  제목 : 테스(095610) 소폭 상승세 +3.17% 기업개요 반도체 장비 제조 사업(전공정 핵심장비 CVD, ETCH장비 제조 등) 등을 영위하는 업체. 전공정 중에서 박막 형성을 위해 사용되는 증착장비인 PECVD(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition)와 건식식각장비인 Gas Phase Etch & Cleaning ...

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  2023-04-05 09:58